4.5mm 工作距适配常规样品,0.61μm 亚微米级观测;平场消场曲,25mm 全视场边缘中心同样清晰。
应用于:
半导体芯片焊接点虚焊检测(暗场模式);金属夹杂物分析(明场模式);精密模具型腔微观磨损观察。