| 数量 | 价格(USD) | 发货日期 |
|---|---|---|
| 1-10 | 待定 | |
| 10- | 待定 |
注意:发货日期以上是因库存不足而调整的。

高 NA + 复消色差实现 紫外 - 可见光精细成像,平场设计消除高倍边缘模糊,适配科研级分析。
应用于:
液晶 微米级缺陷分析(如 0.5μm 划痕、气泡);
半导体晶圆 近紫外光刻胶观测(355nm 波段优化,兼容光刻工艺)。
| NA | WD | ±D.F | Φ24 Eyepiece Field of View |
|---|---|---|---|
| 0.45 | 15mm | 1.4um | 0.48mm |
| 数量 | 价格(USD) | 发货日期 |
|---|---|---|
| 1-10 | 待定 | |
| 10- | 待定 |