高倍极限分辨(接近衍射极限),平场设计抵消场曲,半复消色差保障色彩无偏差,45mm 齐焦兼顾操作安全。
应用于:
半导体芯片纳米缺陷(线路缺口、纳米划痕)检测、超精密材料(石墨烯)微观观察、高倍暗场颗粒分析。