高 NA + 复消色差实现 紫外 - 可见光精细成像,平场设计消除高倍边缘模糊,适配科研级分析。
应用于:
液晶 微米级缺陷分析(如 0.5μm 划痕、气泡);
半导体晶圆 近紫外光刻胶观测(355nm 波段优化,兼容光刻工艺)。