VL Plan Fluor EPI 明场长距物镜

高倍下仍保持长工作距（3.1mm，远超常规 100× 物镜），兼顾高分辨与操作安全；NA 0.8 增强聚光能力，结合平场半复消色差，实现全视场高清无彩边成像。

应用于：

半导体纳米缺陷（如晶圆氧化层针孔）、超精密材料（如石墨烯）微观形貌等超精细检测。