采用复消色差校正(全可见光 400–700nm 消色)与平场设计,消除场曲与彩边干扰,50× 倍率下兼顾分辨率与视场范围,适配中等倍率下的精细观测。
应用于:
半导体芯片焊接点缺陷检测(平衡视场与分辨率)、金属晶粒分布分析、精密模具中等倍率磨损观察。