VL Plan Apo EPI 明视场观察物镜

采用复消色差校正（全可见光 400–700nm 消色）与平场设计，消除场曲与彩边干扰，50× 倍率下兼顾分辨率与视场范围，适配中等倍率下的精细观测。

应用于：

半导体芯片焊接点缺陷检测（平衡视场与分辨率）、金属晶粒分布分析、精密模具中等倍率磨损观察。