复消色差 + 平场设计保障全视场(0.25mm)边缘与中心清晰度一致,100× 高倍率下仍保持 0.29μm 高分辨率,适合纳米级结构观测。
应用于:
芯片纳米级划痕 / 短路检测、石墨烯等纳米材料微观形貌分析、金属晶界超高倍精细研究。