高倍下仍保持长工作距(3.1mm,远超常规 100× 物镜),兼顾高分辨与操作安全;NA 0.8 增强聚光能力,结合平场半复消色差,实现全视场高清无彩边成像。
应用于:
半导体纳米缺陷(如晶圆氧化层针孔)、超精密材料(如石墨烯)微观形貌等超精细检测。