VL Plan Apo NUV/M Plan Apo NUV HR近紫外视场物镜

20X 款 17mm 工作距，优于常规 20×（普遍 < 10mm），适配芯片引脚、电路线宽等中等细节观测，平衡倍率与操作空间 。355nm 紫外捕捉光刻胶细节，532nm 可见光还原金属线路色，支撑半导体光刻 / 蚀刻双波段质检 。

应用于：

半导体电路线宽测量（≥0.7μm）、LCD 彩色滤光片缺陷检测。