| 数量 | 价格(USD) | 发货日期 |
|---|---|---|
| 1-10 | 待定 | |
| 10- | 待定 |
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HR 版 NA 0.8 且针对 355nm 优化,分辨率达 0.3μm(近衍射极限),可辨芯片纳米电路等亚微米结构 。1.6mm 短工作距为高 NA 妥协,适配半导体晶圆缺陷复判、激光加工终点检测等固定样品超精细观测 。
应用于:
半导体先进制程(如 7nm 以下电路)检测、激光微纳加工的 “终点精度” 验证。
| NA | 0.8 | WD | 1.6mm |
| ±D.F | 0.4um | Φ24 Eyepiece Field of View | 0.48mm |
| 数量 | 价格(USD) | 发货日期 |
|---|---|---|
| 1-10 | 待定 | |
| 10- | 待定 |