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VL Plan Fluor EPI BD 明暗场长距物镜

产品编号: VL Plan Fluor EPI BD 100X

高倍下长工作距突破:3.1mm 工作距离远超常规 100× 物镜(通常 < 1mm),兼顾超精密观察与操作安全;极限分辨力:NA 0.8 结合平场半复消色差,可检测芯片纳米级短路、晶圆氧化层针孔等超细微缺陷。



应用于:

半导体芯片纳米划痕检测(暗场)、超精密材料(如石墨烯)微观形貌分析(明场)、金属晶界异常高倍观察。

注意事项
  • 产品图片仅供参考,并不代表所有产品。

已配置规格

NA0.8WD3.1mm
R0.34um±D.F0.43um
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数量
数量 价格(USD)发货日期
1-10待定
10-待定
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VL Plan Fluor EPI BD 明暗场长距物镜

VL Plan Fluor EPI BD 20X
长工作距离,高清成像。
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VL Plan Fluor EPI BD 明暗场长距物镜

VL Plan Fluor EPI BD 50X
长工作距离,高清成像。
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