无限远校正，明场消色差；50× 高倍 + NA=0.80，达 0.34μm 纳米级分辨率，但工作距短、焦深浅，对样本平整度要求高。

应用于：

纳米级精细结构的明场观测，如半导体器件纳米线、金属晶界微观形貌，或超薄切片超微结构分析。